特許

J-GLOBAL ID：200903053456010573

電子ビ-ム描画のデ-タ変換方法

発明者： 河合 正治 ,  三好 勝也 ,  新海 雅彦 ,  菊地 孝幸 ,  藤田 真須美
出願人/特許権者： 株式会社ニコン
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平4-029123
公開番号（公開出願番号）：特開平5-226235
出願日： 1992年02月17日
公開日（公表日）： 1993年09月03日
要約：

【要約】【目的】電子ビ-ム描画のパタ-ンデ-タの変換を高速に行う。【構成】幾何デ-タからなる電子ビ-ム描画のパタ-ンデ-タを、描画すべきパタ-ンの最小線幅より小さい分解能を持つ座標上の複数の座標位置デ-タと、その複数の座標位置デ-タのそれぞれに対応した2値デ-タとからなるビットマップデ-タに変換し、ショット分解や近接効果補正の処理を簡略化する。

請求項（抜粋）：

幾何デ-タからなる電子ビ-ム描画のデ-タを、描画すべきパタ-ンの最小線幅より小さい分解能を持つ座標上の複数の座標位置デ-タと、その複数の座標位置デ-タのそれぞれに対応した2値デ-タとからなるビットマップデ-タに変換することを特徴とする電子ビ-ム描画のデ-タ変換方法。

IPC (2件)：

H01L 21/027 ,  G06F 15/68 400

引用特許：

審査官引用 (3件)

• 特開昭60-198432
  
• 特開昭60-262420
  
• 特開昭61-009343