特許

J-GLOBAL ID：200903053485334337

ベルト駆動型常圧CVD装置

発明者： 阿久根 洋文
出願人/特許権者： ソニー株式会社
代理人 (1件)： 松村 修
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-372579
公開番号（公開出願番号）：特開2001-189306
出願日： 1999年12月28日
公開日（公表日）： 2001年07月10日
要約：

【要約】【課題】 半導体ウエハの表面へのBPSG薄膜の成膜後に、その常圧CVD装置外で既存の洗浄装置を用いて前記半導体ウエハ上のBPSG薄膜表面を水洗する必要のない常圧CVD装置を得ること。【解決手段】 本発明のベルト駆動型常圧CVD装置1Aは、共通の筐体8と、この筐体8内に配設された成膜装置3と、この成膜装置3に半導体ウエハSを搬入し、その半導体ウエハSの表面にBPSG薄膜を成膜した後、その成膜された半導体ウエハSを搬出部41Aに搬出する第1搬送装置4と、この第1搬送装置4の搬出部41A側の斜め下方の筐体8内に配設されたスピン洗浄装置100と、前記第1搬送装置4の搬出部41A側と前記スピン洗浄装置100との間に、前記BPSG薄膜が成膜された半導体ウエハSを自然落下させることができるように掛け渡された第2搬送装置200とから構成されている。

請求項（抜粋）：

共通の筐体と、前記筐体内に配設された成膜装置と、前記成膜装置に半導体ウエハを搬入し、その半導体ウエハの表面にBPSG薄膜を成膜した後、その成膜された半導体ウエハを搬出部に搬出する第1搬送装置と、前記第1搬送装置の搬出部側の斜め下方の前記筐体内に配設されたスピン洗浄装置と、前記第1搬送装置の搬出部側と前記スピン洗浄装置との間に、前記BPSG薄膜が成膜された半導体ウエハを自然落下させることができるように掛け渡された第2搬送装置とから構成されていることを特徴とするベルト駆動型常圧CVD装置。

IPC (3件)：

H01L 21/31 ,  C23C 16/44 ,  H01L 21/304 643

FI (3件)：

H01L 21/31 B ,  C23C 16/44 J ,  H01L 21/304 643 A

Fターム (13件)：

4K030BA24 ,  4K030CA04 ,  4K030DA08 ,  4K030GA12 ,  4K030GA14 ,  4K030JA09 ,  4K030LA15 ,  5F045AA03 ,  5F045AB35 ,  5F045AB36 ,  5F045BB10 ,  5F045DP23 ,  5F045EN04