特許
J-GLOBAL ID:200903053486496110

膜の物質特性解析装置

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 森 哲也 (外2名)
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平11-260966
公開番号(公開出願番号):特開2001-083107
出願日: 1999年09月14日
公開日(公表日): 2001年03月30日
要約:
【要約】【課題】 物質特性を効率的に算出するのに好適な膜の物質特性解析装置を提供する。【解決手段】 単層または多層の薄膜を形成した試料10にX線を照射し、照射したX線のうち試料10で反射する反射X線の強度を測定することにより、入射角度の変化に対する反射X線の強度の変化を測定し、与えられた物質特性から入射角度の変化に対する反射X線の強度の変化の理論値を算出する評価式を用いて、理論値が測定値と一致しまたは近似することとなる物質特性を算出する段階のうち、前段階を遺伝的アルゴリズムにより行い、後段階を従来の最適化法により行うようにした。
請求項(抜粋):
単層又は多層の膜を形成した試料に測定波を照射し、照射した測定波のうち前記試料で反射する反射測定波の強度を測定し、前記測定波の前記試料への入射角度又は前記反射測定波の前記試料での反射角度に依存した前記反射測定波の強度の変化に基づいて、前記膜の状態を示す物質特性を解析する装置において、与えられた物質特性から前記入射角度又は前記反射角度に依存した前記反射測定波の強度の変化の理論値を算出する評価式を用いて、前記理論値が、前記入射角度又は前記反射角度に依存した前記反射測定波の強度の変化の測定値と一致し又は近似することとなる物質特性を、遺伝的アルゴリズムにより算出するようになっていることを特徴とする膜の物質特性解析装置。
IPC (2件):
G01N 23/20 ,  G06F 15/18 550
FI (2件):
G01N 23/20 ,  G06F 15/18 550 C
Fターム (11件):
2G001AA01 ,  2G001BA15 ,  2G001BA29 ,  2G001CA01 ,  2G001FA06 ,  2G001FA29 ,  2G001GA13 ,  2G001KA11 ,  2G001KA20 ,  2G001MA05 ,  2G001NA07

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