特許

J-GLOBAL ID：200903053492416020

ミクロトームによる試料作成方法及びミクロトーム

発明者： 小久保 光典 ,  芹澤 祥吾
出願人/特許権者： 東芝機械株式会社
代理人 (1件)： 鈴江 武彦 (外6名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-077920
公開番号（公開出願番号）：特開2000-271895
出願日： 1999年03月23日
公開日（公表日）： 2000年10月03日
要約：

【要約】【課題】 ミクロトームを用いて試料ブロックをスライスして薄片状の試料を作成する際、カッタ走行面に対する試料ブロックの姿勢を高い精度で調整する。【解決手段】 試料ブロック10はステージ15の上に保持され、カッタ21はステージの15の上方を走行する。ステージ15を、試料ブロック10の表面の図心近傍を通り、互いに直交する2本の傾動軸の回りで傾動可能に支持する。カッタ21の刃先の走行面に対して平行な基準面31を設ける。予め平坦な表面が形成された試料ブロック10を、ステージ15にセットする。先ず、基準面31に対して前記表面を押し当てることによって、基準面31に対して前記表面が平行になる様にステージ15の傾動角度を調整し、この状態で、ステージ15の傾動をクランプする。次いで、前記走行面に対する前記表面の距離を調整した後、前記カッタを走行させて試料ブロックの表層のスライスを行う。

請求項（抜粋）：

試料ブロックを保持してその位置を調整するステージ、及びこのステージの上方を走行するカッタを備えたミクロトームを用い、試料ブロックの表層をカッタでスライスして薄片状の試料を作成する試料作成方法において、前記ステージを、前記試料ブロックの表面の近傍を通り、互いに直交する2本の傾動軸の回りで傾動可能に支持するとともに、前記カッタの刃先の走行面に対して平行な基準面を設け、予め平坦な表面が形成された試料ブロックを、前記ステージにセットし、先ず、前記基準面に対して前記表面を押し当てることによって、前記基準面に対して前記表面が平行になる様に前記ステージの傾動角度を調整し、この状態で、前記ステージの傾動を拘束し、次いで、前記走行面に対する前記表面の距離を調整した後、前記カッタを走行させて試料ブロックの表層をスライスすること、を特徴とするミクロトームによる試料作成方法。

IPC (4件)：

B26D 3/28 610 ,  B26D 3/28 ,  B26D 7/01 ,  B26D 7/27

FI (4件)：

B26D 3/28 610 T ,  B26D 3/28 610 S ,  B26D 7/01 C ,  B26D 7/27

Fターム (9件)：

3C021AA06 ,  3C021BB01 ,  3C021BB05 ,  3C021BE03 ,  3C021CC01 ,  3C021DB07 ,  3C021GA02 ,  3C021GA04 ,  3C021KA01