特許

J-GLOBAL ID：200903053503072213

電子放出素子、電子源および画像形成装置の製造方法

発明者： 元井 泰子 ,  小林 登代子
出願人/特許権者： キヤノン株式会社
代理人 (1件)： 渡辺 敬介 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-044095
公開番号（公開出願番号）：特開2000-243257
出願日： 1999年02月23日
公開日（公表日）： 2000年09月08日
要約：

【要約】【課題】 工程が簡素で低コストで、かつ、量産性にすぐれ、歩留まりの向上した電子放出素子、並びにそれを用いた電子源、画像形成装置の製造方法を提供する。【解決手段】 基体1上に形成された対の対向素子電極2,3の間に形成されたシリカ膜上で、該素子電極の双方に接続された導電性膜の一部に形成された電子放出部を有する電子放出素子の製造方法において、シリカ膜4を形成する材料を含むインクをインクジェット装置により液滴9として付与する工程と、付与された液滴9を乾燥、焼成してシリカ膜4とする工程と、導電性膜を形成する材料を含むインクをインクジェット装置により液滴として付与する工程と、付与した液滴を乾燥、焼成して素子電極の双方に接続された導電性膜5を形成する工程と、素子電極間に電圧を印加して上記シリカ膜上の導電性膜5に電流を流すことにより電子放出部6を形成する工程とを有することを特徴とする。

請求項（抜粋）：

基体上に形成された一対の対向する素子電極と、該素子電極の間に形成されたシリカ膜と、該シリカ膜上で、かつ該素子電極の双方に接続された導電性膜と、該導電性膜の一部に形成された電子放出部を有する電子放出素子の製造方法において、該製造方法が、(1)上記シリカ膜を形成する材料を含むインクをインクジェット装置により液滴として所定の位置に付与する工程と、(2)付与された液滴を乾燥および焼成してシリカ膜とする工程と、(3)上記シリカ膜上に上記導電性膜を形成する材料を含むインクをインクジェット装置により液滴として所定の位置に付与する工程と、(4)付与された液滴を乾燥および焼成して素子電極の双方に接続された導電性膜を形成する工程と、(5)上記一対の素子電極間に電圧を印加して上記シリカ膜上の導電性膜に電流を流すことにより電子放出部を形成する工程と、を有することを特徴とする電子放出素子の製造方法。

IPC (3件)：

H01J 9/02 ,  H01J 1/316 ,  H01J 31/12

FI (3件)：

H01J 9/02 E ,  H01J 1/30 E ,  H01J 31/12 C

Fターム (8件)：

5C036EE01 ,  5C036EF01 ,  5C036EF06 ,  5C036EF09 ,  5C036EG12 ,  5C036EH06 ,  5C036EH08 ,  5C036EH11