特許

J-GLOBAL ID：200903053504711996

荷電粒子ビ-ム出射方法及びその出射装置

発明者： 田所 昌宏 ,  平本 和夫 ,  廣田 淳一 ,  西 正嗣
出願人/特許権者： 株式会社日立製作所
代理人 (1件)： 作田 康夫
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-074961
公開番号（公開出願番号）：特開平11-312599
出願日： 1993年06月25日
公開日（公表日）： 1999年11月09日
要約：

【要約】【課題】荷電粒子ビームの照射線量を必要とされる照射線量値に制御することができる荷電粒子ビーム出射方法及びその出射装置を提供する。【解決手段】照射室9において放射線モニター8で照射線量を測定し、比較器12が放射線モニター8から出力される照射線量の測定値17と制御装置10から出力される照射線量の設定値14bとを比較して、測定値17が設定値14bとなるようにゲインコントローラ13にゲインコントロール信号18を出力し、電極7に印加する高周波電圧16の振幅を制御する。

請求項（抜粋）：

荷電粒子ビームに高周波電磁界を印加することにより加速器から荷電粒子ビームを出射する荷電粒子ビーム出射方法であって、前記加速器から出射された荷電粒子ビームによる照射線量を測定し、測定された照射線量に応じて前記高周波電磁界の強度を制御することを特徴とする荷電粒子ビーム出射方法。

IPC (3件)：

H05H 7/10 ,  G21K 5/04 ,  H05H 13/04

FI (3件)：

H05H 7/10 ,  G21K 5/04 D ,  H05H 13/04 G