イオン注入に使用する方法及びそのためのイオン注入装置

発明者： , , ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：萼経夫 (外3名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-260209
公開番号（公開出願番号）：特開2000-106125
出願日： 1999年09月14日
公開日（公表日）： 2000年04月11日
要約：

【要約】【課題】イオン注入を制御するための線量測定を行う線量測定カップを用いる注入方法及びそのためのイオン注入装置を提供すること。【解決手段】加工物の注入表面にイオンを衝突させる装置及び方法。処理室12は、内部室を形成し、その中に、1つ以上の加工物をイオン注入のために挿入される。エネルギー源40は、処理室内にイオンプラズマを形成する。支持体30は処理室の内部領域42内に加工物を位置決める。注入表面は、イオンプラズマ内に配置される。パルス発生器50は、支持体にイオンを引き寄せるための電気パルスを印加する。1つ以上の線量測定カップ60が電気的にバイアスされたイオン集中表面を有し、この表面は、注入電流を測定するために加工物の支持体の回りに配置される。注入制御装置195 は、線量測定カップ60からの信号を監視して加工物のイオン注入を制御する。

請求項（抜粋）：

(a) 処理室(12)においてイオンプラズマを作り出すことによりイオンの集中を生じさせ、(b) 前記処理室(12)内に加工物(14)を取付け、(c) 前記プラズマ内のイオンを加工物(14)に向けて加速させるために、電気パルス(50)を加工物の取付支持体(30)に加え、(d) 線量測定カップ(60)内の加工物に向けて加速するイオンを集中し、(e) 前記カップ(60)からのデータに基づいたイオン線量データを決定する、各工程を有する、加工物へのイオン注入に使用する方法。

IPC (3件)：

H01J 37/317 , C23C 14/48 , H01L 21/265

FI (3件)：

H01J 37/317 C , C23C 14/48 B , H01L 21/265 T

引用特許：

審査官引用 (1件)

イオン注入装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平5-315294 出願人：日新電機株式会社

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