特許

J-GLOBAL ID：200903053507880683

多層セラミック基板の製造方法

発明者： 中居 秀朗 ,  砂原 博文
出願人/特許権者： 株式会社村田製作所
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-077659
公開番号（公開出願番号）：特開2000-277914
出願日： 1999年03月23日
公開日（公表日）： 2000年10月06日
要約：

【要約】【課題】 収縮抑制層を円滑に剥離・除去し、表面性の優れた多層セラミック基板を製造すること。【解決手段】 ガラス・セラミックグリーンシートを積層してなる複合積層体1を形成する工程と、複合積層体1の両主面に、複合積層体1の焼成時の平面方向への収縮を抑制する収縮抑制層2a及び2bを設ける工程と、複合積層体1と収縮抑制層2a及び2bとを複合積層体1の焼結温度で焼成する工程と、アルミナ砥粒を分散した水溶液を圧縮空気によって加速し、これを吹き付けて収縮抑制層2a及び2bを除去する工程と、を有する、多層セラミック基板の製造方法。

請求項（抜粋）：

セラミックグリーンシートと導体層とを積層してなる複合積層体を形成する工程と、前記複合積層体の両主面若しくは一方主面に、前記複合積層体の焼成時の平面方向への収縮を抑制する収縮抑制層を設ける工程と、前記複合積層体と前記収縮抑制層とを、前記複合積層体の焼結温度で焼成する工程と、前記収縮抑制層を、砥粒を含む溶液を吹き付けることによって除去する工程と、を有することを特徴とする、多層セラミック基板の製造方法。

IPC (2件)：

H05K 3/46 ,  B32B 18/00

FI (3件)：

H05K 3/46 H ,  H05K 3/46 T ,  B32B 18/00 D

Fターム (25件)：

4F100AA08 ,  4F100AA19 ,  4F100AA20 ,  4F100AB24 ,  4F100AB31 ,  4F100AD00A ,  4F100AG00 ,  4F100AR00B ,  4F100BA02 ,  4F100EH762 ,  4F100EJ312 ,  4F100EJ482 ,  4F100GB43 ,  4F100JA03 ,  4F100JG01B ,  4F100JG10 ,  5E346CC16 ,  5E346CC17 ,  5E346EE14 ,  5E346EE25 ,  5E346EE27 ,  5E346EE29 ,  5E346GG09 ,  5E346HH06 ,  5E346HH31