特許
J-GLOBAL ID:200903053514351696

露光部材、露光装置及び方法、デバイス製造方法、並びに、デバイス

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 藤元 亮輔
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2001-027852
公開番号(公開出願番号):特開2002-231615
出願日: 2001年02月05日
公開日(公表日): 2002年08月16日
要約:
【要約】【課題】 解像度、重ね合わせ精度、スループット及び経済性に優れた露光をもたらす露光部材、露光装置及び方法、デバイス製造方法、並びに、デバイスを提供する。【解決手段】 被処理体に近接場光が働く範囲内で密着されて前記近接場光を利用してパターンを前記被処理体に露光する薄膜と、前記薄膜を互いに離間する複数のパターン部に分割する支持部とを有する露光部材において、前記薄膜は前記パターン部において弾性変形して前記被処理体に密着可能である。
請求項(抜粋):
被処理体に近接場光が働く範囲内で密着されて前記近接場光を利用してパターンを前記被処理体に露光する薄膜と、前記薄膜を互いに離間する複数のパターン部に分割する支持部とを有する露光部材であって、前記薄膜は前記パターン部において弾性変形して前記被処理体に密着可能である露光部材。
IPC (2件):
H01L 21/027 ,  G03F 7/20 521
FI (2件):
G03F 7/20 521 ,  H01L 21/30 502 D
Fターム (3件):
5F046BA02 ,  5F046BA10 ,  5F046CA10

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