特許
J-GLOBAL ID：200903053516915813
転写マスクおよび電子線描画装置
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
高橋 明夫 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平5-013428
公開番号（公開出願番号）：特開平6-230562
出願日： 1993年01月29日
公開日（公表日）： 1994年08月19日
要約：
【要約】【目的】 熱変形歪を低減し帯電を防止する転写マスクと、搭載するパタ-ン領域数を増やすために大型化した転写マスクを機械的に移動して位置合わせすることのできる電子線描画装置を提供する。【構成】 転写マスクのパタ-ン領域を円形の凹部内に形成して熱応力を円形の凹部に均一に作用させ熱変形歪を低減する。また、転写マスクの両面に導電性薄膜を形成し、これを接地することにより転写マスクの帯電を防止し、帯電による電子線軌跡の歪を除去する。 さらに電子線描画装置に転写マスク移動用のマスクステ-ジを設け、大型化した転写マスクの位置合わせを機械的に行う。
請求項（抜粋）：
パタ-ン領域内に複数の繰り返し描画用のパタ-ン部を形成し、上記パタ-ン領域の複数を備えた電子線描画装置用の転写マスクにおいて、上記各パタ-ン領域内にそれぞれ複数の円筒または円錐状の凹部を設け、上記パタ-ン領域内の各パタ-ン部を個別に上記複数の凹部の一つの中に設けるようにしたことをことを特徴とする転写マスク。
IPC (2件)：
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