特許

J-GLOBAL ID：200903053519110050

スリット製造方法、スリット、及び電子ビーム露光装置

発明者： 武藤 治信 ,  矢野 弘
出願人/特許権者： 株式会社アドバンテスト
代理人 (1件)： 龍華 明裕
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-032988
公開番号（公開出願番号）：特開2002-237441
出願日： 2001年02月08日
公開日（公表日）： 2002年08月23日
要約：

【要約】【課題】 電子ビームを精度よく矩形に成形するスリット、電子ビーム露光装置、及びスリットの製造方法を提供する。【解決手段】 電子ビームを所望の形状に成形するスリットを製造するスリット製造方法であって、基板の表面に溝部を形成する溝部形成段階と、基板の裏面から、溝部の底面に、溝部の底面の大きさより小さい貫通孔を、異方性ウェットエッチングにより形成する貫通孔形成段階とを備える。

請求項（抜粋）：

電子ビームを所望の形状に成形するスリットを製造するスリット製造方法であって、基板の表面に溝部を形成する溝部形成段階と、前記基板の裏面から、前記溝部の底面に、前記溝部の底面の大きさより小さい貫通孔を、異方性ウェットエッチングにより形成する貫通孔形成段階とを備えることを特徴とするスリット製造方法。

IPC (4件)：

H01L 21/027 ,  G03F 1/16 ,  G03F 7/20 504 ,  G03F 7/20 521

FI (6件)：

G03F 1/16 B ,  G03F 1/16 E ,  G03F 7/20 504 ,  G03F 7/20 521 ,  H01L 21/30 541 B ,  H01L 21/30 541 W

Fターム (18件)：

2H095BA01 ,  2H095BA08 ,  2H095BB02 ,  2H095BB15 ,  2H095BB36 ,  2H095BC17 ,  2H095BC27 ,  2H097AA03 ,  2H097BA10 ,  2H097CA16 ,  2H097JA02 ,  2H097LA10 ,  5F056AA04 ,  5F056AA33 ,  5F056CB05 ,  5F056CB07 ,  5F056CB32 ,  5F056EA04