特許
J-GLOBAL ID：200903053521020573
装飾性および密着性に優れる窒化ジルコニウムの製造 方法
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
丸木 良久
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平5-262978
公開番号（公開出願番号）：特開平7-090571
出願日： 1993年09月27日
公開日（公表日）： 1995年04月04日
要約：
【要約】【構成】金属ジルコニウムターゲットを使用し窒素ガスとアルゴンガスのガス圧力の比が0.04〜0.055である窒素ガスとアルゴンガスの混合ガス中において、反応性スパッタリングにより基板表面に窒化ジルコニウム膜を形成する装飾性および密着性に優れる窒化ジルコニウムの製造方法である。【効果】金属、非金属の何れを問わず装飾性が要求される、例えば、時計、メガネ、その他の装飾品等に使用される部材に対して、非常に美麗な金色を呈しており、優れた装飾性および密着性を有する窒化ジルコニウム皮膜を形成することができる。
請求項（抜粋）：
金属ジルコニウムターゲットを使用し、窒素ガスとアルゴンガスのガス圧力の比が0.04〜0.055である窒素ガスとアルゴンガスの混合ガス中で、反応性スパッタリングにより基板表面に窒化ジルコニウム膜を形成することを特徴とする装飾性および密着性に優れる窒化ジルコニウムの製造方法。
IPC (2件)：
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