特許
J-GLOBAL ID:200903053529501007

薄膜コーティング及びその形成法

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 中村 稔 (外7名)
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平4-054508
公開番号(公開出願番号):特開平6-132554
出願日: 1992年01月29日
公開日(公表日): 1994年05月13日
要約:
【要約】【構成】 コーティングに圧縮力特性を与える物質的及びコーティングに引張力特性を与える物質を基板上に同時に付着させ、それを酸化して薄膜コーティングを形成し、その形成の間、コーティング中の応力をモニター1 モニターされた応力に応答して前記物質の相対付着量を調整し、コーティング中の応力を制御することを含む基板上にコーティングを形成する物理装着法、及びその装置【効果】 この方法は 太陽電池の保護ガラスカバー、従って劣化しやすい装着剤の使用を排除し、それに代る薄膜カバーを形成でき、太陽電池光学デテクターなどの保護光学カバーの形成に有用である。
請求項(抜粋):
基板上にコーティングを形成する物理蒸着法であって、コーティングに圧縮力特性を与える少くとも1つの物質及びコーティングに引張力特性を与える少くとも1つの物質から選ばれる少くとも2種の物質を基板上に同時に付着させ、酸化してその上に薄膜コーティングを形成し;その形成の間、コーティング中の応力をモニターし;モニターされた応力に応答して前記物質の相対付着量を調整してコーティング中の応力を制御することを含む方法。
IPC (2件):
H01L 31/04 ,  C23C 14/24
引用特許:
審査官引用 (4件)
  • 特開平2-162788
  • 特開昭63-273205
  • 特開昭64-000265
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