特許
J-GLOBAL ID：200903053545338663
半導体成長装置、緊急ガス処理システム並びに緊急ガス処理方法
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
松隈 秀盛
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平8-271047
公開番号（公開出願番号）：特開平10-116790
出願日： 1996年10月14日
公開日（公表日）： 1998年05月06日
要約：
【要約】【課題】 緊急時の安全を充分に確保し、かつ設備の簡略化が可能である半導体成長装置、緊急ガス処理システム並びに緊急ガス処理方法を提供する。【解決手段】 原料に用いる特定高圧ガスを配置し開閉の制御をするシリンダーキャビネット2を、半導体成長装置1の成長装置本体3より分離して、成長装置本体3から独立した給排気システムとされた部屋に配置してなる半導体成長装置1を構成し、この半導体成長装置に対して、緊急ガス処理装置21に接続されたシリンダーキャビネット2の筐体排気を、通常時は通常のガス処理装置に導入し、緊急時には通常排気の配管23を遮断し、緊急ガス処理装置21への配管へ切り換えてガス処理を行う。
請求項（抜粋）：
特定高圧ガスを原料に用いる半導体成長装置であって、上記特定高圧ガスを配置し開閉の制御をするシリンダーキャビネットを、上記半導体成長装置の成長装置本体より分離して、該成長装置本体から独立した給排気システムとされた部屋に配置してなることを特徴とする半導体成長装置。
IPC (2件)：
FI (2件)：
引用特許：
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