特許

J-GLOBAL ID：200903053548311162

X線露光装置

発明者： 寺島 茂 ,  宮地 剛司
出願人/特許権者： キヤノン株式会社
代理人 (1件)： 阪本 善朗
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平6-093069
公開番号（公開出願番号）：特開平7-283124
出願日： 1994年04月06日
公開日（公表日）： 1995年10月27日
要約：

【要約】【目的】 X線がアパーチャ開口の周縁で乱反射されるのを防ぐ。【構成】 X線L1 はマスクM1 を経てウエハW1 の露光領域S1 に照射されマスクM1 の回路パターンP1 を転写、焼付けする。X線L1 の不必要な周辺部分を遮断するアパーチャ3はX線L1 の光軸O1 に対して進退自在である4枚のアパーチャブレード11を有する。X線L1 の最外周部の発散角は略0.6度であり、各アパーチャブレード11の端縁部分11bは前記光軸O1 に垂直である本体部分11cに対してX線L1 の光軸O1 に沿って下流側に10度だけ傾斜しているため、各アパーチャブレード11の端面11aによってX線L1 が乱反射されるおそれがない。

請求項（抜粋）：

光源から基板に向って発生される照明光の光路に開口手段を備えたX線露光装置であって、前記開口手段が前記照明光の不要部分を除いてこれを通過させる開口と該開口を囲む平板部分を有し、前記開口手段の少くとも前記平板部分が前記照明光の光軸に垂直な平面に対して前記光軸に向って前記光路の下流側に傾斜していることを特徴とするX線露光装置。

IPC (4件)：

H01L 21/027 ,  G03F 7/20 503 ,  G03F 7/20 521 ,  G21K 5/02