特許

J-GLOBAL ID：200903053553876658

新規チアベンダゾールフッ素メタクリルイソシアネート誘導体及びその製造方法並びにそれを用いる表面処理剤

発明者： 熊谷 正志 ,  土田 克之 ,  森 英之
出願人/特許権者： 株式会社ジャパンエナジー
代理人 (1件)： 小松 秀岳 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平7-223632
公開番号（公開出願番号）：特開平9-067372
出願日： 1995年08月31日
公開日（公表日）： 1997年03月11日
要約：

【要約】【課題】 金属や有機基材に対して撥水、撥脂、潤滑、防錆、抗菌性を付与する表面処理剤を提供する。【解決手段】 下記一般式(1)で表される新規チアベンダゾールフッ素メタクリルイソシアネート誘導体。【化1】〔式中、R1は下記一般式(2)で表わされる基を示し、下記一般式(2)中のR3はフッ素又はトリフルオロメチル基を示し、nは1〜15の整数である。又、式中R2は下記一般式(3)で表わされる基を示す。〕【化2】

請求項（抜粋）：

下記一般式(1)で表される新規チアベンダゾールフッ素メタクリルイソシアネート誘導体。【化1】〔式中、R1は下記一般式(2)で表わされる基を示し、下記一般式(2)中のR3はフッ素又はトリフルオロメチル基を示し、nは1〜15の整数である。又、式中R2は下記一般式(3)で表わされる基を示す。〕【化2】

IPC (4件)：

C07D417/04 235 ,  C08F 20/34 MMQ ,  C08F 20/38 MMU ,  C23C 22/00

FI (4件)：

C07D417/04 235 ,  C08F 20/34 MMQ ,  C08F 20/38 MMU ,  C23C 22/00 Z