特許
J-GLOBAL ID：200903053558822068
微小真空管およびその製造方法
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
鈴江 武彦
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平6-069887
公開番号（公開出願番号）：特開平7-254369
出願日： 1994年03月15日
公開日（公表日）： 1995年10月03日
要約：
【要約】【目的】電界放出効率の向上化、アレイ化したときの均一性の向上化、アレイ化したときの動作の信頼性向上化および耐久性の向上化を図れる微小真空管およびその製造方法を提供する。【構成】先端部が尖鋭な凸状のエミッタ部23を有したエミッタ材料層15と、このエミッタ材料層15の構成材料より固有抵抗の大きい材料で形成されてエミッタ材料層15の背面側に積層構成に設けられたエミッタ芯材層16と、エミッタ部23の先端部を除く部分を覆うように設けられた絶縁層13およびボロン拡散層13と、ボロン拡散層13上にエミッタ部23の先端部周面を囲むように設けられたゲート電極層21とを備えている。
請求項（抜粋）：
先端部が尖鋭な凸状のエミッタ部を有したエミッタ材料層と、このエミッタ材料層の構成材とは異なる材料で形成され、上記エミッタ材料層の前記エミッタ部が突出している側とは反対側に上記エミッタ材料層に対して積層構成に設けられたエミッタ芯材層と、前記エミッタ部に対向して形成されたアノード電極とを具備してなることを特徴とする微小真空管。
IPC (3件)：
H01J 21/06
, H01J 1/30
, H01J 9/02
