特許
J-GLOBAL ID:200903053589284510
ジヒドロキシ化合物含有残留物を後処理するための方法
発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件):
矢野 敏雄 (外3名)
公報種別:公表公報
出願番号(国際出願番号):特願平8-528024
公開番号(公開出願番号):特表平11-505551
出願日: 1996年03月06日
公開日(公表日): 1999年05月21日
要約:
【要約】a) ジカルボン酸もしくはそのエステルまたはエステルを形成する誘導体とモル過剰のジヒドロキシ化合物とのエステル(交換)反応の第1工程、b) a)のエステル(交換)反応生成物の重縮合の少なくとも1つの第2工程、およびc) a)とb)の反応による蒸気を出発材料の回収のための処理にかけることによって、ポリエステルの製造によるジヒドロキシ化合物含有残留物を後処理するための方法は、1) 当該方法の工程a)の蒸気および工程b)の一部の蒸気を少なくとも1つの塔A)中で合わせ、蒸気の低沸点成分を塔頂から除去し、主に過剰のジヒドロキシ化合物ならびにオリゴマー反応生成物およびポリマー反応生成物を含有する塔底生成物を工程a)に再循環させ、かつ2) 当該方法の工程b)の残りの蒸気を少なくとも1つの塔B)に移させ、この蒸気の低沸点成分を塔頂から除去し、塔底生成物を塔から排出させ、その後にこの生成物をジヒドロキシ化合物の回収のために後処理することより成る。
請求項(抜粋):
ポリエステルの製造によるジヒドロキシ化合物含有残留物を、 a) ジカルボン酸もしくはそのエステルまたはエステルを形成する誘導体とモル過剰のジヒドロキシ化合物とのエステル(交換)反応の第1工程、 b) a)のエステル(交換)反応生成物の重縮合の少なくとも1つの第2工程、および c) a)とb)との反応による蒸気を出発材料の回収のための処理にかけることによって後処理するための方法において、 1) 当該方法の工程a)の蒸気および工程b)の一部の蒸気を少なくとも1つの塔A)中で合わせ、蒸気の低沸点成分を塔頂から除去し、主に過剰のジヒドロキシ化合物ならびにオリゴマー反応生成物およびポリマー反応生成物を含有する塔底生成物を工程a)に再循環させ、かつ 2) 当該方法の工程b)の残りの蒸気を少なくとも1つの塔B)中に移させ、この蒸気の低沸点成分を塔頂から除去し、塔底生成物を塔から排出させ、その後にこの生成物をジヒドロキシ化合物の回収のために後処理することを特徴とする、ポリエステルの製造によるジヒドロキシ化合物含有残留物を後処理するための方法。
IPC (3件):
C08G 63/78
, C07C 29/80
, C07C 31/20
FI (3件):
C08G 63/78
, C07C 29/80
, C07C 31/20 Z
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