特許

J-GLOBAL ID：200903053591873964

画像焼付装置およびこれを備えた写真処理装置、ならびに画像焼付方法

発明者： 石井 智之
出願人/特許権者： ノーリツ鋼機株式会社
代理人 (1件)： 原 謙三
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-120068
公開番号（公開出願番号）：特開2001-305663
出願日： 2000年04月20日
公開日（公表日）： 2001年11月02日
要約：

【要約】【課題】 光変調素子としてDMDを用いた画像焼付装置においても、焼付画像の画素を必要以上に重ねることなく画素ずらしを行うことによって、解像度が高く鮮やかな画像を焼き付けることが可能な画像焼付装置を提供する。【解決手段】 DMD7から出射した光を印画紙P上に投影する拡大レンズ8と、印画紙Pとの間の領域に、複数のマイクロレンズが形成されたマイクロレンズアレイ9を配置する。DMD7の各画素から出射した光は、マイクロレンズアレイ9における各マイクロレンズによって集光されて、印画紙P上に縮小された大きさで結像する。そして、画素ずらし露光を行うことによって、未露光領域を露光し、隣り合う画素同士の重なりを最低限にした状態で高解像度化を図る。

請求項（抜粋）：

光源と、上記光源からの光を画像データに応じて各画素部毎に変調させて、感光材料にその光を照射する光変調手段と、上記光変調素子の各画素部からの光が上記感光材料上で結像する画素面積を、縮小させる画素面積縮小手段とを備え、上記感光材料への露光後に、該感光材料の未露光領域に露光を行うことを特徴とする画像焼付装置。

Fターム (4件)：

2H106AA04 ,  2H106AA12 ,  2H106AA71 ,  2H106BF01