特許

J-GLOBAL ID：200903053602100580

X線露光装置およびデバイスの製造方法

発明者： 太田 裕久
出願人/特許権者： キヤノン株式会社
代理人 (4件)： 大塚 康徳 ,  高柳 司郎 ,  大塚 康弘 ,  木村 秀二
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2002-199217
公開番号（公開出願番号）：特開2004-047518
出願日： 2002年07月08日
公開日（公表日）： 2004年02月12日
要約：

【課題】パルス光の光量を制御する。【解決手段】露光雰囲気を制御したチャンバ内で、原版のパターンを基板に転写するX線露光装置は、パルス光を照射するための光源を制御する発光制御部(14)と、基板上に照射されたパルス光量を検出する強度モニタ部(11)と、検出されたパルス光量に基づき、チャンバ内における局所領域の露光雰囲気を変更して、照射されたパルス光の光量を制御する光量制御部(12,13)と、を有する。【選択図】 図1

請求項（抜粋）：

露光雰囲気を制御したチャンバ内で、原版のパターンを基板に転写するX線露光装置において、 パルス光を照射するための光源を制御する発光制御部と、 前記基板上に照射されたパルス光量を検出する強度モニタ部と、 前記検出されたパルス光量に基づき、前記チャンバ内における局所領域の露光雰囲気を変更して、前記照射されたパルス光の光量を制御する光量制御部と、 を有することを特徴とするX線露光装置。

IPC (2件)：

H01L21/027 ,  G03F7/20

FI (3件)：

H01L21/30 531A ,  G03F7/20 503 ,  H01L21/30 531E

Fターム (16件)：

2H097BB01 ,  2H097CA15 ,  2H097GB00 ,  2H097LA10 ,  5F046DA01 ,  5F046DA04 ,  5F046DA27 ,  5F046DB01 ,  5F046DB03 ,  5F046DC01 ,  5F046DC10 ,  5F046DD06 ,  5F046GA07 ,  5F046GA14 ,  5F046GB09 ,  5F046GC03