特許

J-GLOBAL ID：200903053610328026

tert-ブトキシカルボニル基で部分エステル化されたp-ヒドロキシαメチルスチレン-スチレンブロック共重合体及びその製造方法

発明者： 渡辺 修 ,  山田 素行 ,  八木橋 不二夫
出願人/特許権者： 信越化学工業株式会社
代理人 (1件)： 小島 隆司
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平4-214675
公開番号（公開出願番号）：特開平6-032851
出願日： 1992年07月20日
公開日（公表日）： 1994年02月08日
要約：

【要約】【目的】 アルカリで容易に現像することができると共に、単分散性で高現像性及び高解像度を有し、機能性高分子としてレジスト材料等の用途に好適なポリマーを提供する。【構成】 重量平均分子量(Mw)/数平均分子量(Mn)が1.01〜1.5の単分散性のp-ヒドロキシαメチルスチレンとスチレンとのブロック共重合体中のポリp-ヒドロキシαメチルスチレン部の水酸基を部分的にtert-ブトキシカルボニル化して、下記構造式(1),(2)及び(3)で示される繰り返し単位を有し、かつ分子量分布が重量平均分子量(Mw)/数平均分子量(Mn)=1.01〜1.5であるポリp-ヒドロキシαメチルスチレン部の水酸基がtert-ブトキシカルボニル基で部分エステル化されたp-ヒドロキシαメチルスチレン-スチレンブロック共重合体を得る。【化1】

請求項（抜粋）：

下記構造式(1),(2)及び(3)で示される繰り返し単位を有し、かつ分子量分布が重量平均分子量(Mw)/数平均分子量(Mn)=1.01〜1.5であることを特徴とするポリp-ヒドロキシαメチルスチレン部の水酸基がtert-ブトキシカルボニル基で部分エステル化されたp-ヒドロキシαメチルスチレン-スチレンブロック共重合体。【化1】

IPC (2件)：

C08F297/02 MRD ,  C08F 8/14 MGN