特許

J-GLOBAL ID：200903053615909620

流動層ガス化方法

発明者： 池田 善正
出願人/特許権者： 新日本製鐵株式会社
代理人 (1件)： 田中 久喬
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平9-105422
公開番号（公開出願番号）：特開平10-279960
出願日： 1997年04月09日
公開日（公表日）： 1998年10月20日
要約：

【要約】【課題】 石炭等の微粉を高いガス化効率、冷ガス効率でガス化する。【解決手段】 流動層で石炭等の微粉を生成したガスの一部を循環して流動層でガス化し、流動層から飛散した微粉を入口流速、サイクロン径を変えた多段のサイクロンで捕集し、捕集した微粉を流動層に循環することで高いガス化効率、冷ガス効率を得る。

請求項（抜粋）：

流動層ガス化炉と、このガス化炉で生成するガス中の固体粒子を捕集する、少なくとも2段以上のサイクロンを有し、かつ、サイクロンの入口ガス流速を後段で順次高くし、最後段以外のサイクロンで捕集した固体粒子を、前記流動層ガス化炉の下部から流動層に供給し、最後段のサイクロンで捕集した固体粒子は系外に取り出すことを特徴とする石炭等のガス化方法。