特許
J-GLOBAL ID：200903053619914688
投影型露光装置
発明者：
出願人/特許権者：
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平3-260767
公開番号（公開出願番号）：特開平6-053119
出願日： 1991年10月08日
公開日（公表日）： 1994年02月25日
要約：
【要約】【目的】 照明光の状態の変更や通常レチクルと位相シフトレチクルとの交換にかかわらず、常に最良焦点面で露光を行う。【構成】 光源1からの光束は開口絞り6により所定形状に制限される。ターレット板TAは開口形状の異なる複数の開口絞りを切り換え可能となっている。また、通常レチクル12と位相シフトレチクル12bとを切り換え可能となっている。これら照明光の状態の変更に応じて、または通常レチクルと位相シフトレチクルとの切り換えに応じて、ギャップセンサAFにオフセットを加える。
請求項（抜粋）：
光源からの照明光を微細パターンを有するマスク上に照射する照明光学系と、前記マスクのパターン像を基板上に投影露光する投影光学系と、前記基板を保持して、前記投影光学系の光軸方向に移動可能なステージと、前記光軸方向に関する前記投影光学系の所定結像面と前記基板との相対位置偏差を検出し、該偏差に応じた検出信号を出力する焦点検出手段と、前記検出信号に基づいて前記ステージの移動を制御する制御手段とを備えた投影型露光装置において、前記投影光学系の開口数と、前記照明光学系の開口数と、前記投影光学系内の前記マスクのフーリエ変換面を通る光束の形状と該フーリエ変換面を通る光束の位置との少なくとも1つに関する情報を入力する入力手段と;前記入力手段からの情報に基づいて所定の露光条件を設定する設定手段と;前記設定手段に設定される露光条件を切り換える切り換え手段と;前記切り換え手段による切り換えによって変化する前記所定結像面の光軸方向の位置変化に応じた値だけ前記焦点検出手段と前記制御手段とのいずれか一方にオフセットを加える調整手段とを有することを特徴とする投影型露光装置。
IPC (4件)：
H01L 21/027
, G03B 27/32
, G03B 27/34
, G03F 9/00
H01L 21/30 311 N
, H01L 21/30 301 P
