特許

J-GLOBAL ID：200903053621342969

超臨界場を応用した有機顔料の製造方法

発明者： 上和野 満雄 ,  仁志 和彦 ,  藤井 勲 ,  富盛 和宣
出願人/特許権者： 大日本インキ化学工業株式会社
代理人 (1件)： 志賀 正武 (外7名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-358088
公開番号（公開出願番号）：特開2001-172519
出願日： 1999年12月16日
公開日（公表日）： 2001年06月26日
要約：

【要約】【課題】 大量の有機溶剤や無機塩、ニーダー等の装置を使用することなく従来よりも短時間で有機顔料セミクルードを結晶転移及び/又は結晶成長させて顔料化し、有機顔料を生産性良く提供する。【解決手段】 フタロシアニン顔料、ジオキサジン顔料、インダンスロン顔料、キナクリドン顔料、イソインドリノン顔料、ジケトピロロピロール顔料等の有機顔料セミクルードを超臨界流体に曝して結晶転移及び/又は結晶成長させる。超臨界流体として、二酸化炭素等の常温で気体の物質を使用すると、顔料化の後に容易に顔料を分離することができる。また、超臨界流体中に、超臨界流体と均一相を形成するように有機溶剤を含有させることによって、より緩やかな条件で、有機顔料セミクルードを結晶転移及び/又は結晶成長させることができる。

請求項（抜粋）：

有機顔料セミクルードを超臨界流体に曝して結晶転移及び/又は結晶成長をさせることを特徴とする有機顔料の製造方法。

IPC (4件)：

C09B 67/10 ,  C09B 67/48 ,  C09B 67/50 ,  C09B 67/52

FI (4件)：

C09B 67/10 ,  C09B 67/48 Z ,  C09B 67/50 B ,  C09B 67/52