特許
J-GLOBAL ID：200903053624581689
洗浄処理装置
発明者：
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出願人/特許権者：
,
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-120364
公開番号（公開出願番号）：特開2002-263696
出願日： 2001年03月14日
公開日（公表日）： 2002年09月17日
要約：
【要約】 (修正有)【課題】 処理槽の底部のし渣および/または汚砂を滞留させることなく循環する洗浄経路に乗せて洗浄効率を高めることができる洗浄処理装置を提供する。【解決手段】 装置本体たる処理槽2は、し渣および/または汚砂を含む汚水24を槽内に導入する手段と、槽内の汚水を排出する手段と、洗浄水供給手段と、洗浄済みの砂泥を排出する手段とを備えるとともに、処理槽内には、同処理槽に導入されたものがエアーおよび/または水の上昇力発生手段により複数個の分離促進ピース38とともに上昇する接触浮上路25が縦向きに伸びるように形成されるとともに、同処理槽内には、接触浮上路内での上昇流が分離促進ピース38とともに再び接触浮上路の下端に導入され接触浮上路とともに循環路を形成する沈降路37が形成されており、導入される汚水から分離浮上した分離浮上物が槽外に取り出される一方分離浮上物が分離され洗浄処理を受けた砂泥が外部に排出されるように構成された洗浄処理装置である。
請求項（抜粋）：
装置本体たる処理槽は、し渣および/または汚砂を含む汚水を槽内に導入する手段と、槽内の汚水を排出する手段と、洗浄水供給手段と、洗浄済みの砂泥を排出する手段とを備えるとともに、処理槽内には、同処理槽に導入されたものがエアーおよび/または水の上昇力発生手段により複数個の分離促進ピースとともに上昇する接触浮上路が縦向きに伸びるように形成されるとともに、同処理槽内には、接触浮上路内での上昇流が分離促進ピースとともに再び接触浮上路の下端に導入され接触浮上路とともに循環路を形成する沈降路が形成されており、導入される汚水から分離浮上した分離浮上物が槽外に取り出される一方分離浮上物が分離され洗浄処理を受けた砂泥が外部に排出されるように構成された洗浄処理装置であって、前記処理槽の下部内には、同下部に下降してくるし渣および/または汚砂を上昇流発生手段により吸い上げ前記接触浮上路内に導入する浮上促進用流路が設けられていることを特徴とする洗浄処理装置。
IPC (6件)：
C02F 11/00 ZAB
, B03B 5/28
, B03B 5/66
, B03D 1/14
, C02F 1/24
, C02F 1/40
C02F 11/00 ZAB A
, B03B 5/28 Z
, B03B 5/66
, B03D 1/14 A
, C02F 1/24 A
, C02F 1/40 Z
4D037AA11
, 4D037AA12
, 4D037AB02
, 4D037BA03
, 4D037BA06
, 4D037BB04
, 4D037BB05
, 4D051AA04
, 4D051AB03
, 4D051CA15
, 4D051DD22
, 4D051DD25
, 4D059AA30
, 4D059BK05
, 4D059BK06
, 4D059BK17
, 4D071AA63
, 4D071AB49
, 4D071AB70
, 4D071CA01
, 4D071DA03
