特許

J-GLOBAL ID：200903053627206528

有機EL装置の製造方法及び製造装置、有機EL装置及び電子機器

発明者： 石井 隆司 ,  関 俊一
出願人/特許権者： セイコーエプソン株式会社
代理人 (1件)： 上柳 雅誉 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2002-079527
公開番号（公開出願番号）：特開2003-282248
出願日： 2002年03月20日
公開日（公表日）： 2003年10月03日
要約：

【要約】【課題】 発光層を構成する有機薄膜の平滑性や、有機薄膜を積層する場合における膜どうしの密着性を向上させるとともに残留溶媒を低減し、長寿命化や、発光輝度の安定化などの発光特性に優れた有機EL装置の製造方法を提供する。【解決手段】 有機EL装置の製造方法において、発光層を形成する際、基板上、又は基板上に形成された正孔注入/輸送層上に、有機発光材料と所定の溶媒とを含む有機EL装置用インク組成物を吐出し、真空中で加熱処理することにより、長寿命化や、発光輝度の安定化などの発光特性に優れた有機EL装置を製造することができる。

請求項（抜粋）：

基板と、電極間に発光層を有する発光素子とを有する有機EL装置の製造方法において、有機発光材料と溶媒とを含む液体材料を設ける材料設置工程と、前記液体材料が設けられた前記基板を真空中で加熱処理する第1加熱工程と、前記真空中で加熱された前記基板をほぼ大気圧で加熱処理する第2加熱工程とを有することを特徴とする有機EL装置の製造方法。

IPC (2件)：

H05B 33/10 ,  H05B 33/14

FI (2件)：

H05B 33/10 ,  H05B 33/14 A

Fターム (6件)：

3K007AB02 ,  3K007AB11 ,  3K007AB15 ,  3K007DB03 ,  3K007FA01 ,  3K007FA03