特許

J-GLOBAL ID：200903053635234050

イオンビーム加工方法および装置

発明者： 梅村 馨 ,  川浪 義実
出願人/特許権者： 株式会社日立製作所
代理人 (1件)： 小川 勝男
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平7-317745
公開番号（公開出願番号）：特開平9-162098
出願日： 1995年12月06日
公開日（公表日）： 1997年06月20日
要約：

【要約】【課題】シャープな加工面を得るイオンビーム加工方法およびこれを実現する装置を提供する。【解決手段】イオンビーム加工装置1において、マスク部4を光学軸9と直交する端辺を持つ固定マスク10と実質的ビーム開口領域4′を決める可動マスク11で構成する。

請求項（抜粋）：

イオン源と、イオンビームが通過する開口パターンを有するマスクと、上記マスクに上記イオン源から引出した上記イオンビームを照射する照射光学系と、試料を保持する試料ステージと、上記マスクを通過したパターンイオンビームを上記試料へ投射して上記開口パターンの像を上記試料上に形成する投射光学系とを含むイオンビーム加工装置において、上記開口パターンは光学軸と直交する辺を有する図形であることを特徴とするイオンビーム加工装置。

IPC (2件)：

H01L 21/027 ,  G03F 7/20 506

FI (4件)：

H01L 21/30 551 ,  G03F 7/20 506 ,  H01L 21/30 502 P ,  H01L 21/30 503 B