特許
J-GLOBAL ID：200903053647905309

支持なしに立つ炭化ケイ素物品を製造する方法及び装置

発明者：
ジテンドラ シン ゴーラ

ジテンドラ シン ゴーラ について

, 
マイケル エー.ピッカーリング

マイケル エー.ピッカーリング について


出願人/特許権者：
シーブイディー,インコーポレイティド

シーブイディー,インコーポレイティド について


代理人 (1件)： 石田 敬 (外4名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-123640
公開番号（公開出願番号）：特開2000-087239
出願日： 1999年04月30日
公開日（公表日）： 2000年03月28日
要約：
【要約】【課題】 化学蒸着により、比較的大きく、緻密で支持なしに立つ炭化ケイ素物品を製造する方法を提供する。【解決手段】 複数の基体の意図された部分で、複数の炭化ケイ素蒸着物を分離する分離手段を設け、これによって重い炭化ケイ素蒸着物を載せた上記基体を蒸着炉から取り出すために、重い炭化ケイ素蒸着物を壊す必要性を緩和する。この分離手段は、より効率的に、鉛直方向に伸びる真空炉の使用を可能にする。この分離手段は、比較的緻密で、大きくて、薄壁の炭化ケイ素シェルの商業生産を可能にする。
請求項（抜粋）：
次のa)〜d)を含む化学蒸着による炭化ケイ素物品の製造方法において:a)蒸着室中で固体の基体の表面の付近に炭化ケイ素前駆体ガスを供給すること;b)前記炭化ケイ素前駆体ガスを反応させて、前記基体の前記表面の予定された蒸着ゾーンに炭化ケイ素蒸着物を形成すること;c)その後、前記蒸着室から前記炭化ケイ素蒸着物を伴う前記基体を取り出すこと;及びd)前記基体から前記蒸着物を分離することによりこれを取り出すこと;次のe)〜f)を含む方法:e)前記蒸着室中の前記予定された蒸着ゾーン及び近接した固体表面の間に位置する前記表面の一部に少なくとも1つの境界ゾーンを設けること;及びf)前記予定された蒸着ゾーンに、前記境界ゾーン中に形成された蒸着物よりも実質的に厚い炭化ケイ素蒸着物を形成すること。
IPC (2件)：
C23C 16/01 ,  C04B 35/565
FI (2件)：
C23C 16/01 ,  C04B 35/56 101 N
引用特許：
出願人引用 (5件)
  • 特公昭49-001393
  • 特開昭55-011179
  • 特開平3-100177
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審査官引用 (5件)
  • 特公昭49-001393
  • 特開昭55-011179
  • 特開平3-100177
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引用文献：
出願人引用 (1件) 審査官引用 (1件)

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