水素吸蔵体の製造方法及び水素吸蔵体

発明者： , , ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：逢坂宏
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2002-009452
公開番号（公開出願番号）：特開2003-210976
出願日： 2002年01月18日
公開日（公表日）： 2003年07月29日
要約：

【要約】【課題】低コストかつ簡易であり、高純度及び高収率を実現することができる水素吸蔵体の製造方法、及びこの製造方法により合成され、高度に構造制御され、軽量、安価かつ安全で輸送性が高く、水素吸蔵能に優れた水素吸蔵体を提供すること。【解決手段】下記一般式(1)で表される構造を有するポリマーに対して、急速昇温加熱及びエネルギー照射処理の少なくとも1種を施す工程を有する、水素吸蔵体の製造方法。また、前記ポリマーを原料とし、ナノサイズの厚さを有するシート状炭素材料及びナノサイズとミクロンオーダーの中間的な径を有する繊維状炭素材料の少なくとも1種の形状からなる、水素吸蔵体。【化4】一般式(1):(但し、前記一般式(1)において、Rは炭化水素基であって、ヘテロ原子を含んでいてもよく、nは2〜10000である。)

請求項（抜粋）：

下記一般式(1)で表される構造を有するポリマーに対して、急速昇温加熱処理及びエネルギー照射処理のうちの少なくとも1種を施す工程を有する、水素吸蔵体の製造方法。【化1】一般式(1):(但し、前記一般式(1)において、Rは炭化水素基であって、ヘテロ原子を含んでいてもよく、nは2〜10000である。)

IPC (6件)：

B01J 20/26 , B01J 20/28 , B01J 20/30 , C01B 31/02 101 , C08G 61/00 , D01F 9/127

FI (6件)：

B01J 20/26 A , B01J 20/28 Z , B01J 20/30 , C01B 31/02 101 F , C08G 61/00 , D01F 9/127

Fターム (44件)：

4G046CA04 , 4G046CB01 , 4G046CB08 , 4G046CC02 , 4G046CC03 , 4G046CC10 , 4G066AC13B , 4G066AC14B , 4G066BA31 , 4G066CA38 , 4G066DA04 , 4G066FA03 , 4G066FA09 , 4G066FA31 , 4G066FA34 , 4G066FA35 , 4J032BA02 , 4J032BA07 , 4J032BA12 , 4J032BB01 , 4J032BB03 , 4J032BD00 , 4J032CA03 , 4J032CA32 , 4J032CA53 , 4J032CA62 , 4J032CA65 , 4J032CB01 , 4J032CB03 , 4J032CB12 , 4J032CE03 , 4J032CF00 , 4J032CG00 , 4J032CG09 , 4L037CS03 , 4L037CS04 , 4L037CT05 , 4L037CT06 , 4L037FA02 , 4L037FA20 , 4L037PA01 , 4L037PA11 , 4L037PA24 , 4L037UA20

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