特許
J-GLOBAL ID：200903053668263978
イオンビームアシスト蒸着による光学薄膜の製造方法および装置
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
阪本 善朗
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平5-048669
公開番号（公開出願番号）：特開平6-240445
出願日： 1993年02月15日
公開日（公表日）： 1994年08月30日
要約：
【要約】【目的】 イオン化ガスが、イオン源より蒸着槽へ洩れることがなく、蒸着槽を高真空度に保って成膜できるようにする。【構成】 蒸着槽4と蒸着槽4の底壁に隣接された第2の真空槽7とがそれぞれ別系統の排気系に接続されている。蒸着槽4には、駆動部3により回転される基板ホルダ2、基板ホルダ2に保持された基板1を所定温度に加熱するためヒータ8、蒸着材料を蒸発させるためのシャッタ6が付設された蒸発源5が配設されており、他方、第2の真空槽7には、イオンビームを発生させるためのイオン源9が配設されている。これにより、イオン源9に導入されるイオン化ガスが蒸着槽4へ洩れることがなく、蒸着槽4を高真空度に保って成膜することができる。
請求項（抜粋）：
蒸着槽において蒸発源より蒸着材料を蒸発させて基板上に成膜する際に、イオン源により発生させたイオンビームを照射するイオンビームアシスト蒸着方法において、前記イオン源を前記蒸着槽とは別の第2の真空槽に配設し、前記第2の真空槽を前記蒸着槽の第1の排気系とは別の第2の排気系により排気し、前記蒸着槽を高真空度に保って成膜することを特徴とするイオンビームアシスト蒸着による光学薄膜の製造方法。
IPC (4件)：
C23C 14/32
, G02B 1/10
, G02B 5/08
, G02B 5/30
