特許

J-GLOBAL ID：200903053668290428

光走査装置

発明者： 立山 晋 ,  清野 稔
出願人/特許権者： 日立工機株式会社
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-032160
公開番号（公開出願番号）：特開2000-231067
出願日： 1999年02月10日
公開日（公表日）： 2000年08月22日
要約：

【要約】【課題】スリット部材の位置精度および加工精度を緩和することが可能で、2本のレーザビームのビーム径調整を容易に行える2ビーム光走査装置を提供する。【解決手段】2本のレーザビーム(1,2)を発生させる光源(3)と、光源からの2本のレーザビームを平行光化して出射する平行光形成手段(4)と、平行光形成手段からの2本の平行光がなす交差点に対しビーム進行方向下流側に設けられた光学部材(6)と、光学部材を通過した2本のレーザビームのそれぞれの一部を遮光するスリット部材(5)と、スリット部材を通過した2本のレーザビームを偏向手段(9)に導く光学手段(7,8)とを有する光走査装置。

請求項（抜粋）：

2本のレーザビームを発生させる光源と、前記光源からの2本のレーザビームを平行光化して出射する平行光形成手段と、前記平行光形成手段からの2本の平行光がなす交差点に対しビーム進行方向下流側に設けられた光学部材と、前記光学部材を通過した2本のレーザビームのそれぞれの一部を遮光するスリット部材と、前記スリット部材を通過した2本のレーザビームを偏向手段に導く光学手段とを有することを特徴とする光走査装置。

FI (2件)：

G02B 26/10 B ,  G02B 26/10 D

Fターム (4件)：

2H045BA23 ,  2H045BA32 ,  2H045CB24 ,  2H045DA02

引用特許：

審査官引用 (1件)

• 光ビーム走査光学装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平4-360285   出願人：ソニー株式会社