改良レーザ

発明者： ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：浅村皓 (外3名)
公報種別：公表公報
出願番号（国際出願番号）：特願平8-536840
公開番号（公開出願番号）：特表平11-509978
出願日： 1996年06月11日
公開日（公表日）： 1999年08月31日
要約：

【要約】環状レーザ空洞および偏光した軸対象レーザビームを発生するための手段を有する、主として材料加工用の工業用高出力レーザ。これらの円錐鏡は、選択性の被膜を施したアキシコンまたはワキシコンであってもよい。円錐形の空洞内鏡をそれらの同等物に使用することに基づき、好適アジマス偏光および好適ラジアル偏光したレーザビームを作るための方法。

請求項（抜粋）：

任意に、アジマス偏光成分に対してだけ高反射性で、ラジアル偏光成分に対して低反射性であり、その結果出力ビームが好適アジマス偏光になる、偏光選択性被覆をした、または第2代替手段として、任意に、ラジアル偏光成分に対してだけ高反射性で、アジマス偏光成分に対して低反射性であり、その結果出力ビームが好適ラジアル偏光になる、偏光選択性被覆をした、本質的に円錐形の空洞内鏡を利用して、好適アジマス偏光または好適ラジアル偏光の出力レーザビームを作るためのプロセス。

引用特許：

審査官引用 (12件)

特開昭48-082793
特開平3-062579
特開昭63-141382

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