特許

J-GLOBAL ID：200903053677663300

真空処理装置

発明者： 権 藤 隆 徳
出願人/特許権者： 株式会社芝浦製作所
代理人 (1件)： 佐藤 一雄 (外3名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平8-327106
公開番号（公開出願番号）：特開平10-172955
出願日： 1996年12月06日
公開日（公表日）： 1998年06月26日
要約：

【要約】【課題】 簡単な構造を備えると共に複数の被処理物を枚葉式で同時に処理できる真空処理装置を提供する。【解決手段】 真空容器1の内部にプロセスガスを供給して被処理物を処理するようにした真空処理装置である。前記真空容器1の内部には、常時互いに連通した複数の処理室2が形成されている。前記複数の処理室2の各々にプロセスガスを供給する複数のガス供給ライン6を有する。前記複数の処理室2を同時に真空排気する全室共通の排気系15を備えている。

請求項（抜粋）：

真空容器の内部にプロセスガスを供給して被処理物を処理するようにした真空処理装置において、前記真空容器の内部に形成され、常時互いに連通した複数の処理室と、前記複数の処理室の各々にプロセスガスを供給する複数のガス供給ラインと、前記複数の処理室を同時に真空排気する全室共通の排気系と、を備えたことを特徴とする真空処理装置。

IPC (2件)：

H01L 21/3065 ,  C23F 4/00

FI (2件)：

H01L 21/302 B ,  C23F 4/00 D

引用特許：

審査官引用 (1件)

• プラズマ処理装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平7-057848   出願人：日本電気株式会社