特許
J-GLOBAL ID：200903053685307369

印刷マスク製造方法

発明者：
中村 昌治

中村 昌治 について

, 
有田 忍

有田 忍 について

, 
有田 英正

有田 英正 について


出願人/特許権者：
リコーマイクロエレクトロニクス株式会社

リコーマイクロエレクトロニクス株式会社 について


代理人 (1件)： 黒田 壽
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2004-079537
公開番号（公開出願番号）：特開2005-262692
出願日： 2004年03月19日
公開日（公表日）： 2005年09月29日
要約：
【課題】 印刷マスクの製造にあたり、凹部を形成した後にその凹部底面一部分に貫通孔を形成する場合に発生する不具合を防止することである。【解決手段】 マスク基材となるプラスチック板に貫通孔を形成した後、凹部の形成準備として、そのプラスチック板のスキージ面に第1ラミネートフィルムを貼り付ける。そして、そのスキージ面がエキシマレーザ装置側に対向するように、プラスチック板をセットしたら、エキシマレーザを照射してアブレーション加工により所望の深さまで掘り下げ、貫通孔の周囲に凹部を形成する。【選択図】 図1
請求項（抜粋）：
マスク基材に対してレーザ加工を施すことにより、凹部の内部底面一部分に貫通孔を有する印刷マスクを製造する印刷マスク製造方法において、 上記マスク基材にレーザを照射することにより上記貫通孔を形成した後、レーザを該マスク基材に照射することにより該凹部を形成することを特徴とする印刷マスク製造方法。
IPC (2件)：
B41C1/14 ,  B41N1/24
FI (2件)：
B41C1/14 101 ,  B41N1/24
Fターム (10件)：
2H084AA05 ,  2H084AE05 ,  2H084BB04 ,  2H084BB13 ,  2H084CC09 ,  2H114AB15 ,  2H114AB17 ,  2H114BA10 ,  2H114DA41 ,  2H114EA02
引用特許：
出願人引用 (7件)
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審査官引用 (4件)
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