ドライエッチング装置およびそのクリーニング方法

発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：山口邦夫 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-048585
公開番号（公開出願番号）：特開2002-252203
出願日： 2001年02月23日
公開日（公表日）： 2002年09月06日
要約：

【要約】【課題】チャンバー内壁に付着したエッチング反応生成物を確実に除去する。【解決手段】エッチングチャンバー14の外周に、チャンバー内をクリーニングするときに使用する磁界発生手段30を設ける。チャンバー内をクリーニングするとき、注入したクリーニングガスをプラズマ化する。そして磁界発生手段にコイル電流を流したときに発生する磁界による作用でチャンバー内のプラズマを流動化する。流動化によってプラズマ密度がチャンバー内で一様になり、チャンバー内壁に付着したエッチング反応生成物をもれなくガス化して、固形物を除去できる。

請求項（抜粋）：

エッチングチャンバー内にクリーニングガスを注入してチャンバー内をクリーニングするとき、上記エッチングチャンバーの外周に設けられた磁界発生手段にコイル電流を流して、上記エッチングチャンバー内のプラズマ密度を流動化するようにしたことを特徴とするドライエッチング装置のクリーニング方法。

Fターム (4件)：

5F004AA15 , 5F004BA08 , 5F004BB07 , 5F004CA03

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