特許

J-GLOBAL ID：200903053696945863

光学材料及びその製造方法

発明者： 大久保 毅
出願人/特許権者： ホーヤ株式会社
代理人 (1件)： 塩澤 寿夫
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平5-284387
公開番号（公開出願番号）：特開平7-118390
出願日： 1993年10月19日
公開日（公表日）： 1995年05月09日
要約：

【要約】 (修正有)【目的】 より高い屈折率を有し、かつアッベ数は少なくとも従来品と同程度に高く維持できる、光学材料及びその製造方法の提供。【構成】 式1(式中、nは2から20までの整数である)で示される繰返し単位の1種又は2種以上を含有する重付加体である光学材料。(A成分)式2(式中、nは2から20までの整数である)で示される反応性オリゴマーの1種又は2種以上と、(B成分)一分子内に2つ以上のビニル基を有する化合物、一分子内に2つ以上のイソ(チオ)シアネート基を有する化合物、及び一分子内に1つ以上のビニル基と1つ以上のイソ(チオ)シアネート基を有する有する化合物からなる群から選ばれる1種又は2種以上とを重付加反応させる前記光学材料の製造方法。

請求項（抜粋）：

式1(式中、nは2から20までの整数である)で示される繰返し単位の1種又は2種以上を含有する重付加体であることを特徴とする光学材料。【化1】

IPC (6件)：

C08G 75/04 NTW ,  C07D339/08 ,  G02B 1/04 ,  G02B 6/00 391 ,  G02C 7/02 ,  G02C 7/04