特許
J-GLOBAL ID：200903053715505918
オルガノシクロシロキサンおよびその製造方法
発明者：
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出願人/特許権者：
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平9-172940
公開番号（公開出願番号）：特開平11-001560
出願日： 1997年06月13日
公開日（公表日）： 1999年01月06日
要約：
【要約】【課題】 アルキレン基を介してケイ素原子にジオルガノポリシロキサン残基を結合している新規なオルガノシクロシロキサン、およびこのオルガノシクロシロキサンを効率よく製造する方法を提供する。【解決手段】 一般式:【化1】(式中、R1は同じかまたは異なる、アルキル基およびフェニル基からなる群から選ばれる基であり、R2はアルキレン基であり、R3はアルキル基、アルケニル基、フェニル基、および水酸基からなる群から選ばれる基であり、mは5〜1,000の数であり、nは3〜8の数である。)で表されるオルガノシクロシロキサン、および(A)ヒドロシリル化反応用触媒の存在下、(B)アルケニル基を有するジオルガノポリシロキサンと(C)ケイ素原子結合水素原子を有するオルガノシクロシロキサンをヒドロシリル化反応させることを特徴とする、上記のオルガノシクロシロキサンの製造方法。
請求項（抜粋）：
一般式:【化1】(式中、R1は同じかまたは異なる、アルキル基およびフェニル基からなる群から選ばれる基であり、R2はアルキレン基であり、R3はアルキル基、アルケニル基、フェニル基、および水酸基からなる群から選ばれる基であり、mは5〜1,000の数であり、nは3〜8の数である。)で表されるオルガノシクロシロキサン。
IPC (4件)：
C08G 77/04
, C08G 77/06
, C08L 83/05
, C08L 83/07
C08G 77/04
, C08G 77/06
, C08L 83/05
, C08L 83/07
