特許
J-GLOBAL ID:200903053720651000
プラスチック容器のプラズマ処理方法及び装置
発明者:
,
,
出願人/特許権者:
代理人 (2件):
小野 尚純
, 奥貫 佐知子
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2005-142387
公開番号(公開出願番号):特開2006-314671
出願日: 2005年05月16日
公開日(公表日): 2006年11月24日
要約:
【課題】 プラスチック容器の内外面を同時にプラズマ殺菌するプラズマ処理方法を提供する。【解決手段】 高周波誘導コイル21により取り囲まれるようにプラスチック容器5をプラズマ処理用チャンバー1内に保持し、前記チャンバー1内に保持された容器5の内部にガス供給管13を挿入し、ガス供給管13からガスを供給しながら、チャンバー1内を排気することにより、ガスを容器5の内面から外面に沿って流しながらチャンバー1内を所定の真空度に保持し、次いで、高周波誘導コイル21に高周波を印加してチャンバ1ー内に高周波電界を導入し、高周波電界によって容器5の内面及び外面付近に前記ガスのプラズマを形成することにより、容器5の内面及び外面を同時にプラズマ殺菌処理する。【選択図】 図1
請求項(抜粋):
高周波誘導コイルにより取り囲まれるようにプラスチック容器をプラズマ処理用チャンバー内に保持し、
前記チャンバー内に保持された前記プラスチック容器の内面及び外面に沿ってプラズマ用ガスを流しながら該チャンバー内を所定の真空度に保持し、
次いで、前記高周波誘導コイルに高周波を印加して該チャンバー内に高周波電界を導入し、該高周波電界によってプラスチック容器の内面及び外面付近に前記ガスのプラズマを形成することにより、プラスチック容器の内面及び外面を同時にプラズマ殺菌処理することを特徴とするプラズマ処理方法。
IPC (7件):
A61L 2/14
, B65D 23/02
, B65D 23/08
, B65D 25/34
, C23C 16/40
, C23C 16/505
, H05H 1/46
FI (7件):
A61L2/14
, B65D23/02 Z
, B65D23/08 B
, B65D25/34 C
, C23C16/40
, C23C16/505
, H05H1/46 L
Fターム (24件):
3E062AA09
, 3E062AC02
, 3E062JA01
, 3E062JA07
, 3E062JA08
, 3E062JB24
, 3E062JC04
, 3E062JD01
, 4C058AA25
, 4C058BB06
, 4C058CC10
, 4C058DD06
, 4C058EE22
, 4C058KK06
, 4C058KK42
, 4K030AA06
, 4K030AA09
, 4K030BA44
, 4K030CA07
, 4K030FA01
, 4K030KA05
, 4K030KA30
, 4K030LA01
, 4K030LA11
引用特許:
出願人引用 (5件)
全件表示
審査官引用 (2件)
-
特開昭46-001947
-
特公昭42-014394
前のページに戻る