真空誘導炉設備

発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：高橋陽介 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-127915
公開番号（公開出願番号）：特開2000-317627
出願日： 1999年05月10日
公開日（公表日）： 2000年11月21日
要約：

【要約】【課題】建設コストが少なく、作業性に優れ、鋳造室の利用効率を高めた真空誘導炉設備を提供する。【解決手段】真空中又は不活性ガス雰囲気下で、被溶融金属を誘導加熱して溶解する真空誘導炉設備10において、鋳造場所となる鋳造室12と、溶解場所となる溶解室20A〜20Dとを備え、溶解室20A〜20Dが複数であって、鋳造室12が単数であるか、又は、溶解室20A〜20Dの室数よりも少ない数であり、かつ、この鋳造室12が複数の溶解室20A〜20Dと夫々連結されている構成とした。この場合、連結構造体15の内部が、溶解室20A〜20Dから鋳造室12への溶湯搬出手段を備えている構成とすると、簡易に溶湯自体を搬出できるので、真空誘導炉溶解設備10の構造をより簡単なものにでき、設備10自体の建設コストを低減できるほか、被溶解金属を鋳造した製品の製造コストを削減することが可能となる。

請求項（抜粋）：

真空中又は不活性ガス雰囲気下で、被溶融金属を誘導加熱して溶解する真空誘導炉設備において、鋳造場所となる鋳造室と、溶解場所となる溶解室とを備え、前記溶解室が複数であって、前記鋳造室が単数であるか、又は、溶解室の室数よりも少ない数であり、かつ、この鋳造室が前記複数の溶解室と夫々連結されていることを特徴とする真空誘導炉設備。

IPC (6件)：

B22D 47/00 , B22D 45/00 , F27B 14/04 , F27B 14/06 , F27D 7/06 , F27D 11/06

FI (6件)：

B22D 47/00 , B22D 45/00 B , F27B 14/04 , F27B 14/06 , F27D 7/06 A , F27D 11/06 A

Fターム (21件)：

4K046AA01 , 4K046BA01 , 4K046BA02 , 4K046BA03 , 4K046CC01 , 4K046CC03 , 4K046CD12 , 4K046CE04 , 4K046DA05 , 4K046DA07 , 4K063AA03 , 4K063AA04 , 4K063AA12 , 4K063AA15 , 4K063AA16 , 4K063BA02 , 4K063BA03 , 4K063CA06 , 4K063DA19 , 4K063DA21 , 4K063FA34

引用特許：

出願人引用 (4件)

特開昭63-243678
特開平4-254349
金属の溶解・鋳造方法及び装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平9-143537 出願人：大同特殊鋼株式会社

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審査官引用 (7件)

特開昭63-243678
特開平4-254349
金属の溶解・鋳造方法及び装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平9-143537 出願人：大同特殊鋼株式会社

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