特許
J-GLOBAL ID：200903053725593025

薄膜磁気ヘッドおよびその製造方法ならびに磁気抵抗効果装置

発明者：
佐々木 芳高

佐々木 芳高 について


出願人/特許権者：
ティーディーケイ株式会社

ティーディーケイ株式会社 について


代理人 (1件)： 星宮 勝美
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-119476
公開番号（公開出願番号）：特開2000-311316
出願日： 1999年04月27日
公開日（公表日）： 2000年11月07日
要約：
【要約】【課題】 磁気抵抗素子またはこれに接続された導電層とシールド層との電気的短絡を防止できるようにする。【解決手段】 薄膜磁気ヘッドは、再生ヘッドと記録ヘッドとを備えている。再生ヘッドは、MR素子5と、MR素子5をシールドするための下部シールド層3および上部シールド層9a,9bと、MR素子5に接続された第1の導電層7と、MR素子5および導電層7と各シールド層との間に設けられた下部シールドギャップ膜4a,4bおよび上部シールドギャップ膜8a,8bと、上部シールドギャップ膜8a,8bに形成されたコンタクトホールを通して導電層7に接続された第2の導電層10bとを有している。第1の導電層7と第2の導電層10bとを接続するためのコンタクトホールは、上部シールドギャップ膜8a,8bの上に上部シールド層の第1の層9aを形成した後に形成される。
請求項（抜粋）：
磁気抵抗素子と、この磁気抵抗素子を挟んで対向するように配置され、前記磁気抵抗素子をシールドするための2つのシールド層と、前記磁気抵抗素子に接続された第1の導電層と、前記磁気抵抗素子および前記第1の導電層と各シールド層との間に設けられた2つの絶縁層と、一方の絶縁層に形成されたコンタクトホールを通して前記第1の導電層に接続された第2の導電層とを備えた薄膜磁気ヘッドであって、前記一方の絶縁層側に位置する一方のシールド層は、前記一方の絶縁層に接する第1の層と、前記第2の導電層と同じ材料によって形成された第2の層とを有することを特徴とする薄膜磁気ヘッド。
Fターム (6件)：
5D034BA03 ,  5D034BA09 ,  5D034BA15 ,  5D034BB02 ,  5D034BB08 ,  5D034DA07
引用特許：
出願人引用 (1件)
  • 磁気ヘッド
    公報種別：公開公報   出願番号：特願平7-095392   出願人：日本電気株式会社
審査官引用 (1件)
  • 磁気ヘッド
    公報種別：公開公報   出願番号：特願平7-095392   出願人：日本電気株式会社

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