特許
J-GLOBAL ID：200903053730808943
写真処理廃液の処理方法及び装置
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
井上 清子 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平6-029144
公開番号（公開出願番号）：特開平7-214044
出願日： 1994年02月02日
公開日（公表日）： 1995年08月15日
要約：
【要約】【目的】 写真処理廃液を加熱蒸発した際に発生する蒸発ガス中の有害物を安定して容易かつ経済的に処理する。【構成】 写真処理廃液を加熱蒸発し、蒸発ガスを少量の空気とともに略200°C以上に加熱し触媒に接触させて反応させる場合において、触媒反応層を前段の触媒反応層(20)と後段の触媒反応層(22)に分割すると共にその間に不活性充填材層(21)を介在させ、上記前段の触媒反応層(20)により蒸発ガス中の有害物の一部を分解しその触媒反応により生じた熱により上昇した蒸発ガスの温度を不活性充填材層(21)において低下させてから後段の触媒反応層(22)にて反応させるようにした。
請求項（抜粋）：
写真処理廃液を加熱蒸発し、蒸発するガスを少量の空気とともに略200°C以上に加熱して触媒に接触させ反応させることにより蒸発ガス中の有害物を酸化分解する写真廃液処理法において、触媒反応を分割して行い、次の触媒反応へ移行するときに該触媒反応により生じた熱で上昇した蒸発ガスの温度を低下させてから次の触媒反応をさせることを特徴とする写真処理廃液の処理方法。
IPC (4件)：
C02F 1/04 ZAB
, B01D 53/86
, B01D 53/86 ZAB
, G03C 5/00
B01D 53/36 D
, B01D 53/36 ZAB E
