脂環構造を有する新規ラクトン化合物及びその製造方法

発明者： , , , , , ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：小島隆司 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-205217
公開番号（公開出願番号）：特開2002-020377
出願日： 2000年07月06日
公開日（公表日）： 2002年01月23日
要約：

【要約】【解決手段】下記一般式(1)で示されるラクトン化合物。【化1】(式中、kは0又は1、mは1≦m≦8を満たす整数である。)【課題】本発明のラクトン化合物を重合することにより得られるポリマーを用いて調製したレジスト材料は、高エネルギー線に感応し、感度、解像性、エッチング耐性に優れ、電子線や遠紫外線による微細加工に有用である。特に、ArFエキシマレーザー、KrFエキシマレーザーの露光波長での吸収が小さく、かつ基板密着性に優れるため、微細でしかも基板に対して垂直なパターンを容易に形成でき、超LSI製造用の微細パターン形成材料として好適である。

請求項（抜粋）：

下記一般式(1)で示されるラクトン化合物。【化1】(式中、kは0又は1、mは1≦m≦8を満たす整数である。)

IPC (5件)：

C07D307/33 , G03F 7/039 601 , H01L 21/027 , C08F 32/00 , C08G 61/08

FI (5件)：

G03F 7/039 601 , C08F 32/00 , C08G 61/08 , C07D307/32 E , H01L 21/30 502 R

Fターム (26件)：

2H025AA01 , 2H025AA02 , 2H025AA03 , 2H025AA09 , 2H025AA14 , 2H025AB16 , 2H025AC04 , 2H025AC06 , 2H025AC08 , 2H025BE00 , 2H025BE10 , 2H025BG00 , 2H025CB08 , 2H025CB41 , 4C037EA07 , 4J032CA34 , 4J032CA45 , 4J032CB01 , 4J032CB03 , 4J032CE12 , 4J032CE13 , 4J100AR11P , 4J100BA11P , 4J100BC53P , 4J100CA01 , 4J100JA38

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