特許
J-GLOBAL ID：200903053757594619

人工空気製造装置

発明者：
深瀬 功二

深瀬 功二 について

, 
富田 伸二

富田 伸二 について


出願人/特許権者：
日本エア・リキード株式会社

日本エア・リキード株式会社 について


代理人 (4件)： 鈴木 崇生 ,  梶崎 弘一 ,  尾崎 雄三 ,  谷口 俊彦
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2004-239730
公開番号（公開出願番号）：特開2006-057711
出願日： 2004年08月19日
公開日（公表日）： 2006年03月02日
要約：
【課題】 半導体製造工場あるいは液晶製造工場などに多用されるCDAプロセスのバックアップ用として利用される、効率性および信頼性の高い人工空気製造装置を提供することを目的とする。【解決手段】 液化酸素の貯留手段11とその気化手段12、液化窒素の貯留手段13とその気化手段14、気化した酸素および窒素を混合する混合手段15を有する人工空気製造装置Aであって、空気を圧縮する圧縮手段1と該空気を水分除去する乾燥手段とを有する圧縮乾燥空気製造プロセスSと、該プロセスの緊急時に作動する制御弁Vnを介して接続することを特徴とする。【選択図】 図1
請求項（抜粋）：
液化酸素の貯留手段とその気化手段、液化窒素の貯留手段とその気化手段、気化した酸素および窒素を混合する混合手段を有する人工空気製造装置であって、空気を圧縮する圧縮手段と該空気を水分除去する乾燥手段を有する圧縮乾燥空気製造プロセスと、該プロセスの緊急時に作動する制御弁を介して接続することを特徴とする人工空気製造装置。
IPC (1件)：
F17C 9/02
FI (1件)：
F17C9/02
Fターム (1件)：
3E073DB04
引用特許：
出願人引用 (4件)
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審査官引用 (3件)

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