特許

J-GLOBAL ID：200903053770680532

投影露光装置及び結像特性測定方法

発明者： 石井 勇樹
出願人/特許権者： 株式会社ニコン
代理人 (1件)： 猪熊 克彦
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平9-303409
公開番号（公開出願番号）：特開平11-121364
出願日： 1997年10月17日
公開日（公表日）： 1999年04月30日
要約：

【要約】【課題】ウエハステージ上に設置された複数の開口部と検出器によって、精度よくかつ高速に像面湾曲量を測定できる投影露光装置と、その測定方法を提供することを課題とする。【解決手段】テストレチクルR上に形成されたテストパターンMを照明光学系2によって照明し、テストパターンの像を投影光学系PLによって基準板3上に設けた開口部sに結像させ、開口部sを通過する光量を検出する検出器6を設け、開口部sとテストパターンの像とを投影光学系PLの光軸AXに直交する平面方向に相対的に移動可能とした投影露光装置において、テストパターンMを露光領域のほぼ全面をカバーするように複数個配置し、複数のテストパターンMに対応して開口部sと検出器6を複数個設け、開口部sを投影光学系PLの光軸AX方向に移動可能に配置して、像面湾曲量を測定可能とした。

請求項（抜粋）：

テストレチクル上に形成されたテストパターンを照明光学系によって照明し、前記テストパターンの像を、投影光学系によって基準板上に設けた開口部に結像させ、前記開口部を通過する光量を検出する検出器を設け、前記開口部と前記テストパターンの像とを、投影光学系の光軸に直交する平面方向に相対的に移動可能とした投影露光装置において、前記テストレチクル上に前記テストパターンを複数個配置し、該複数のテストパターンに対応して前記開口部と前記検出器を複数個設け、前記基準板を前記投影光学系の光軸方向に移動可能に配置して、投影光学系の像面湾曲量を測定可能とした投影露光装置。

IPC (2件)：

H01L 21/027 ,  G03F 7/20 521

FI (4件)：

H01L 21/30 502 V ,  G03F 7/20 521 ,  H01L 21/30 520 A ,  H01L 21/30 526 B