特許
J-GLOBAL ID:200903053778367582

真空蒸着システム

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 中村 稔 (外7名)
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平3-307961
公開番号(公開出願番号):特開平6-256936
出願日: 1991年11月22日
公開日(公表日): 1994年09月13日
要約:
【要約】【目的】 蒸散されるべき材料をより迅速に装入することができる改良された真空蒸着システムを提供する。【構成】 少なくとも1つの開口端部を有すると共に軸方向に位置合わせされたスロットを有する抵抗加熱可能な円筒形のるつぼと上記の円筒形るつぼ内にこれと同心に位置する中空の円筒形挿入部材を有する真空蒸着用のコンテナを開示し、上記の挿入部材は上記のるつぼの上記のスロットと位置合わせされたスロット、密閉端部および上記の導電性の円筒形るつぼの導電率よりも小さい導電率を有する。この真空蒸着用のコンテナは真空蒸着の工程に使用する。
請求項(抜粋):
少なくとも1つの開口端部を有すると共に軸方向に位置合わせされたスロットを有する抵抗加熱可能な円筒形のるつぼと上記の円筒形るつぼ内にこれと同心に位置する少なくとも1つの中空の円筒形挿入部材によって構成され、上記の挿入部材は上記のるつぼの上記のスロットと位置合わせされたスロット、密閉端部および上記の導電性の円筒形るつぼの導電率よりも小さい導電率を有することを特徴とする真空蒸着用コンテナ。
IPC (3件):
C23C 14/24 ,  G03G 5/08 101 ,  G03G 5/082

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