特許

J-GLOBAL ID：200903053799865256

露光方法及び装置並びにマスク及びその製造方法

発明者： 入江 信行
出願人/特許権者： 株式会社ニコン
代理人 (1件)： 前田 均 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-027678
公開番号（公開出願番号）：特開2002-231613
出願日： 2001年02月05日
公開日（公表日）： 2002年08月16日
要約：

【要約】【課題】 寸法が大きなバーコードや複雑な形状のバーコードを短時間で高効率的に形成できるようにすることである。【解決手段】 所定の体系に従って複数の要素コードを間欠的に配列して構成されるバーコードを、バーコードの読み取り方向(要素コードの配列方向)Dに直交する方向に縮小した形状を有する縮小コードが形成されたマスクを用い、バーコードの読み取り方向Dに直交する方向に順次隣接するように、縮小コードの像Imを基板上に複数回露光転写する。

請求項（抜粋）：

所定の体系に従って複数の要素コードを間欠的に配列して構成されるバーコードを該配列方向に直交する方向に縮小した形状を有する縮小コードが形成されたマスクを用い、該配列方向に直交する方向に順次隣接するように、該縮小コードを基板上に複数回露光転写することを特徴とする露光方法。

IPC (3件)：

H01L 21/027 ,  G03F 1/08 ,  G03F 7/20 521

FI (5件)：

G03F 1/08 R ,  G03F 1/08 B ,  G03F 7/20 521 ,  H01L 21/30 502 G ,  H01L 21/30 515 F

Fターム (7件)：

2H095BA05 ,  2H095BE04 ,  2H095BE08 ,  2H095BE09 ,  2H095BE10 ,  5F046DA30 ,  5F046DD03