特許
J-GLOBAL ID:200903053807008120

超臨界流体による洗浄方法

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 山川 政樹
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平10-230799
公開番号(公開出願番号):特開2000-061410
出願日: 1998年08月17日
公開日(公表日): 2000年02月29日
要約:
【要約】【課題】 作業環境を汚染したり、作業者が直接把持したり接触することなく、安全に有害物質を洗浄し、除去する。【解決手段】 物品11を容器15に収納して洗浄槽2内に設置する。超臨界二酸化炭素12と助溶剤13を洗浄槽2に供給して物品11に接触させることにより物品11を洗浄する。これにより物品11に含有しているPCBを除去する。物品11が密閉度の高いものについては、装置14によって粉砕または破壊し、内部に超臨界二酸化炭素12が浸入し易くする。洗浄後、洗浄槽2から排出される超臨界二酸化炭素12中に含まれているPCBの濃度を検出部6において検出し、洗浄状態を監視する。また、この超臨界二酸化炭素12は分離器4に導かれて臨界点以下に冷却、減圧されることにより通常の二酸化炭素に戻り、PCBと分離される。このPCBは配管5dを通って有害物処理施設に搬送される。
請求項(抜粋):
有害物質を含有する物品に超臨界流体を接触させることにより前記有害物質を洗浄し、除去する洗浄方法において、有害物質を含有する物品を容器に収納する工程と、前記物品を収納した前記容器を洗浄槽内に搬送する工程と、前記洗浄槽内に超臨界流体を供給して前記容器内の物品に接触させることにより物品中に含有されている有害物質を洗浄し、除去する工程と、超臨界流体によって洗浄され、除去された前記有害物質を洗浄槽外部の外気に接触させないで回収する工程とを備えたことを特徴とする超臨界流体による洗浄方法。
IPC (5件):
B08B 3/08 ,  B01D 11/00 ,  B08B 7/00 ,  C11D 7/02 ,  C11D 7/50
FI (5件):
B08B 3/08 A ,  B01D 11/00 ,  B08B 7/00 ,  C11D 7/02 ,  C11D 7/50
Fターム (40件):
3B116AA21 ,  3B116AA47 ,  3B116AB02 ,  3B116AB43 ,  3B116BB62 ,  3B116BB82 ,  3B116BB90 ,  3B116CD11 ,  3B116CD22 ,  3B116CD24 ,  3B116CD33 ,  3B116CD42 ,  3B201AA21 ,  3B201AA47 ,  3B201AB02 ,  3B201AB43 ,  3B201BB62 ,  3B201BB82 ,  3B201BB90 ,  3B201BB95 ,  3B201BB98 ,  3B201CB12 ,  3B201CC21 ,  3B201CD11 ,  3B201CD22 ,  3B201CD24 ,  3B201CD33 ,  3B201CD42 ,  4D056AB18 ,  4D056AC24 ,  4D056BA16 ,  4H003DA12 ,  4H003DB01 ,  4H003DC04 ,  4H003EA31 ,  4H003ED03 ,  4H003ED19 ,  4H003ED28 ,  4H003ED29 ,  4H003ED30
引用特許:
審査官引用 (3件)

前のページに戻る