特許
J-GLOBAL ID：200903053810187940
位相シフトレチクルの検査方法
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
井桁 貞一
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平3-271503
公開番号（公開出願番号）：特開平5-107741
出願日： 1991年10月18日
公開日（公表日）： 1993年04月30日
要約：
【要約】【目的】 位相シフトレチクルの検査方法に関し,位相シフトレチクルのデータベースによる欠陥検査を可能とすることを目的とする。【構成】 位相シフトレチクルのパターンエッジ部の透過光量変化を予想した画像処理を行って作成した検査データを展開した画像と,被検査レチクルの画像とを比較して欠陥検査を行うように構成する。
請求項（抜粋）：
位相シフトレチクルのパターンエッジ部の透過光量変化を予想した画像処理を行って作成した検査データを展開した画像と,被検査レチクルの画像とを比較して欠陥検査を行うことを特徴とする位相シフトレチクルの検査方法。
IPC (4件)：
G03F 1/08
, G01N 21/88
, G06F 15/62 405
, H01L 21/027
