特許

J-GLOBAL ID：200903053816311898

プラズマ処理装置

発明者： 田村 仁 ,  小藤 直行
出願人/特許権者： 株式会社日立ハイテクノロジーズ
代理人 (2件)： 鈴木 市郎 ,  武 顕次郎
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2003-158199
公開番号（公開出願番号）：特開2004-363247
出願日： 2003年06月03日
公開日（公表日）： 2004年12月24日
要約：

【課題】電界集中を防止してより均一なプラズマ分布を得ることのできるプラズマ処理装置を提供する。【解決手段】処理ガスを導入する導入配管及び容器内を排気する排気管を備え、その内部にプラズマを生成するプラズマ処理容器109と、前記処理容器109内に試料110を載置して保持する基板電極111と、前記処理容器上面に配置した誘電体板107と、複数の円弧状のアンテナ素子106を前記誘電体板上の円周に沿って配置したアンテナ素子群と、高周波電力を複数に分割し、分割した高周波電力を前記複数のアンテナ素子106のそれぞれに円周上の同一方向端のみから供給する電力分割装置104を備えた。【選択図】 図1

請求項（抜粋）：

処理ガスを導入する導入配管及び容器内を排気する排気管を備え、その内部にプラズマを生成するプラズマ処理容器と、 前記処理容器内に試料を載置して保持する基板電極と、 前記処理容器上面に配置した誘電体板と、 複数の円弧状のアンテナ素子を前記誘電体板上の円周に沿って配置したアンテナ素子群と、 高周波電力を複数に分割し、分割した高周波電力を前記複数のアンテナ素子のそれぞれに円周上の同一方向端のみから供給する電力分割装置を備えたことを特徴とするプラズマ処理装置。

IPC (4件)：

H01L21/3065 ,  B01J19/08 ,  C23F4/00 ,  H05H1/46

FI (4件)：

H01L21/302 101D ,  B01J19/08 H ,  C23F4/00 A ,  H05H1/46 B

Fターム (29件)：

4G075AA24 ,  4G075AA30 ,  4G075BC06 ,  4G075CA47 ,  4G075DA02 ,  4G075DA18 ,  4G075EC30 ,  4G075EE02 ,  4G075EE31 ,  4G075EE40 ,  4G075FB02 ,  4G075FB04 ,  4G075FB06 ,  4G075FC11 ,  4G075FC15 ,  4K057DA04 ,  4K057DA11 ,  4K057DA16 ,  4K057DD01 ,  4K057DM05 ,  4K057DM06 ,  4K057DM37 ,  5F004AA01 ,  5F004BA20 ,  5F004BB11 ,  5F004BB28 ,  5F004BB29 ,  5F004BD03 ,  5F004CA06