特許

J-GLOBAL ID：200903053819539865

光触媒モジュール、その製造方法、光触媒反応装置

発明者： 村田 逞詮 ,  桜井 和寿
出願人/特許権者： 三井造船株式会社
代理人 (1件)： 石井 博樹
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-106182
公開番号（公開出願番号）：特開2002-301378
出願日： 2001年04月04日
公開日（公表日）： 2002年10月15日
要約：

【要約】【課題】 溶射等の成膜方法にも十分に耐え、素地の酸化および/または分解を防止することが可能な保護層を備えた光触媒モジュールを提供すること。【解決手段】 金属などの素地13と、酸化チタンなどの光触媒層11との間に、ケイ酸リチウムを含有する保護層15を備えた光触媒モジュールであり、ケイ酸リチウムを含有する保護層15は、ケイ酸リチウム80〜90重量%およびケイ酸ナトリウム10〜20重量%を含有するビヒクルを塗料化してなる塗膜である。

請求項（抜粋）：

素地と光触媒層との間に、ケイ酸リチウムを含有する保護層を備えたことを特徴とする、光触媒モジュール。

IPC (7件)：

B01J 35/02 ZAB ,  B01D 53/86 ,  B01J 21/16 ,  B01J 37/02 301 ,  C09D 1/02 ,  C09D 5/00 ,  C09D 5/02

FI (7件)：

B01J 35/02 ZAB J ,  B01J 21/16 M ,  B01J 37/02 301 Q ,  C09D 1/02 ,  C09D 5/00 D ,  C09D 5/02 ,  B01D 53/36 J

Fターム (59件)：

4D048AA02 ,  4D048AA06 ,  4D048AB01 ,  4D048AB03 ,  4D048BA06X ,  4D048BA07X ,  4D048BA12X ,  4D048BA13X ,  4D048BA14X ,  4D048BA39X ,  4D048BA41X ,  4D048BA45X ,  4D048BB03 ,  4D048BB18 ,  4D048EA01 ,  4G069AA03 ,  4G069AA08 ,  4G069BA04A ,  4G069BA04B ,  4G069BA15A ,  4G069BA15B ,  4G069BA17 ,  4G069BA22C ,  4G069BA48A ,  4G069BE06C ,  4G069CA07 ,  4G069CA10 ,  4G069CA12 ,  4G069CA13 ,  4G069ED03 ,  4G069ED06 ,  4G069EE01 ,  4G069EE06 ,  4G069FA03 ,  4G069FA04 ,  4G069FB22 ,  4G069FC08 ,  4G069FC09 ,  4J038CG001 ,  4J038EA011 ,  4J038GA16 ,  4J038HA456 ,  4J038KA08 ,  4J038KA20 ,  4J038MA02 ,  4J038MA10 ,  4J038NA04 ,  4J038NA11 ,  4J038NA14 ,  4J038NA15 ,  4J038NA25 ,  4J038PA11 ,  4J038PA13 ,  4J038PB05 ,  4J038PB06 ,  4J038PC01 ,  4J038PC02 ,  4J038PC04 ,  4J038PC08